قایق ویفر کوارتز نیمه هادی

قایق‌های ویفر کوارتز Semixlab Semiconductor ابزارهای کلیدی یاتاقان هستند که برای فرآیندهای دمای بالا مانند انتشار، اکسیداسیون، CVD، آنیل و غیره در تولید نیمه‌هادی طراحی شده‌اند. این قایق‌ها که از کوارتز مصنوعی با خلوص بالا ساخته شده‌اند، دارای مقاومت عالی در برابر دمای بالا، پایداری شیمیایی و ضریب انبساط حرارتی پایین هستند و می‌توانند ویفرها را در محیط‌های فرآیندی سخت به طور پایدار حمل کنند تا ثبات فرآیند و بازده محصول تضمین شود.

تجهیزات قابل استفاده: سازگار با انواع کوره‌های انتشار افقی/عمودی (Horizontal/Vertical Diffusion Furnace)، سیستم LPCVD و تجهیزات عملیات حرارتی سریع (RTP).

تضمین کیفیت

کنترل کیفیت دقیق: تشخیص نشتی با طیف‌سنجی جرمی هلیوم ۱۰۰٪ (میزان نشتی <1×10⁻⁹ میلی‌بار · لیتر بر ثانیه). گزارش خلوص مواد (آزمایش ICP-MS) برای هر سری تولید صادر می‌شود.

استانداردهای صدور گواهینامه: مطابق با مشخصات SEMI F47، از طریق گواهینامه سیستم مدیریت کیفیت ISO 9001:2015.

عمر مفید: میانگین عمر مفید در شرایط عادی بیش از ۲ سال است (بسته به فرکانس فرآیند و شرایط دما).

چرا قایق کوارتز ما را انتخاب کنیم؟

خدمات سفارشی: اندازه و ساخت سفارشی با توجه به مدل تجهیزات (TEL، Kokusai، ASM و غیره) و الزامات فرآیند.

پاسخ سریع: زمان تحویل استاندارد 3 هفته است، سفارش‌های فوری را می‌توان به 10 روز کاری کاهش داد.

شبکه خدمات جهانی: ارائه مشاوره فنی، راهنمایی نصب و پشتیبانی تعمیر و نگهداری پس از فروش. مشخصات مواد.

مشخصات پروژه

سنتز مواد کوارتز ذوب شده

خلوص ≥99.99% SiO₂

سازگاری اندازه ویفر ۸ اینچ، ۱۲ اینچ (قابل تنظیم ۶ اینچ یا ۱۸ اینچ)

دمای عملیاتی ≤1200 درجه سانتیگراد (پیوسته) / 1300 درجه سانتیگراد (پیک)

ضریب انبساط حرارتی (CTE) 0.55×10⁻⁶/°C (20-1000°C)

زبری سطح (Ra) ≤0.2μm

ظرفیت استاندارد ۲۵/۵۰/۱۰۰ قرص

گازهای فرآیندی قابل استفاده O₂، N₂، H₂، Ar، SiH₄، HCl و غیره

اکسیداسیون/نفوذ در دمای بالا: آلایش سیلیکون (فسفر، نفوذ بور)، رشد اکسید گیت.

رسوب لایه نازک: سیلیکون پلی کریستالی LPCVD، رسوب نیترید سیلیکون (Si₃N₄).

فرآیند آنیل: آنیل پس از کاشت یون (RTA)، آلیاژسازی فلزات.

نیمه‌هادی‌های نسل سوم: فرآیند اپیتاکسی سیلیکون کاربید (SiC)، گالیوم نیترید (GaN).

1. مشخصات مواد

کوارتز با خلوص فوق‌العاده بالا (>99.99% SiO₂): از آلودگی توسط یون‌های فلزی (Na+، K+، Fe³+ و غیره) جلوگیری می‌کند و الزامات پاکیزگی برای فرآیندهای پیشرفته (گره‌های <5 نانومتر) را برآورده می‌کند.

مقاومت در برابر دمای بالا: دمای عملیاتی مداوم ۱۲۰۰ درجه سانتیگراد، مقاومت دمایی لحظه‌ای ۱۳۰۰ درجه سانتیگراد، بدون خطر تغییر شکل یا تبلور.

بی‌اثری شیمیایی: در برابر گازهای فرآیندی مانند HCl، H₂، O₂، SiH₄ و محیط‌های اسیدی/قلیایی مقاوم است. در استفاده طولانی مدت خورنده نیست.

۲. طراحی دقیق

بهینه سازی ساختار:

دقت فاصله‌گذاری شیارها ±0.05 میلی‌متر است که موقعیت‌یابی دقیق ویفر (8/12 اینچ) را تضمین کرده و از خراش یا جابجایی جلوگیری می‌کند.

طراحی مقاوم در برابر شوک حرارتی، سازگار با افزایش و کاهش سریع دما (نرخ گرمایش ≤20 درجه سانتیگراد در دقیقه).

تشکیل ذرات کم: سطح با دقت فوق‌العاده‌ای صیقل داده شده است (Ra ≤0.2μm) تا چسبندگی ذرات و ریزش آنها کاهش یابد.

۳. پیکربندی متنوع

ظرفیت اختیاری: پشتیبانی از 25 قطعه، 50 قطعه، 100 قطعه و سایر مشخصات استاندارد، همچنین می‌توان شماره اسلات غیر استاندارد را سفارشی کرد.

تطبیق نوع: قایق روباز، قایق بسته یا نوع قایق خاص (مانند طراحی کانال انحراف کف قایق).

Q1: آیا می توانید اندازه غیر استاندارد یا طراحی خاصی ارائه دهید؟

A1: Semixlab از خدمات سفارشی، از جمله تنظیم اندازه، حد بالای دما (نیاز به ارتقاء مواد) یا نوع رابط پشتیبانی می‌کند. لطفاً برای شرایط خاص با تیم فنی Semixlab تماس بگیرید.

Q2: زمان سرب چقدر است؟

A2: زمان تحویل برای محصولات استاندارد 4-6 هفته و زمان طراحی و تأیید برای محصولات سفارشی 2-3 هفته است.

Q3: آیا پشتیبانی فنی پس از فروش ارائه می دهید؟

A3: بله، ما مشاوره فنی مادام العمر و خدمات پاسخگویی اضطراری ارائه می‌دهیم. در صورت بروز مشکل در نصب یا استفاده، می‌توانید در هر زمان از طریق ایمیل یا تلفن با تیم پشتیبانی تماس بگیرید.

Q4: آیا محصول با استانداردهای صنعت نیمه هادی مطابقت دارد؟

A4: بله، فرآیند تولید با استانداردهای SEMI مطابقت دارد و توسط سیستم مدیریت کیفیت ISO 9001 تأیید شده است. هر دسته قبل از خروج از کارخانه از نظر هوابندی، مقاومت در برابر دما و خلوص آزمایش می‌شود.